Evolase社 ピコ秒/ナノ秒ファイバーレーザー UKKO-PS/NS
UKKO-PS/NS
ピコ秒/ナノ秒ファイバーレーザー
透明材料の内部マーキング・マーキングおよび構造形成・脆性材料の微細加工・生体イメージング・フェムト秒OPO/OPAのポンピング・顕微鏡観察・レーザークリーニング・ラマン分光・ガラスの改質などのアプリケーションに最適なピコ秒/ナノ秒ファイバーレーザーです。
【ピコ秒】
- 1064nmで最大70W
- 532nmで最大30W
- 355nmで最大12W
- 繰り返し率：50kHz – 20MHz
- パルスエネルギー：最大60μJ
- パルス幅：50ps
- 高いビーム質：M²<1.3
- 一体型、密閉性、堅牢な設計
- 空冷および水冷バージョン
- 生涯にわたる低い所有コスト
【ナノ秒】
- 532nmで最大10W
- 1064nmで最大40W
- 繰り返し率：10 – 1000kHz
- パルスエネルギー：最大200μJ
- 高いビーム質M²：<1.3
- ファイバー出力/自由空間出力
index
波長別仕様
| モデル | 中心波長 | 最大出力 | 線幅 | パルス繰り返し率 | パルスエネルギー |
|---|---|---|---|---|---|
| PS-355-50-12-10 | 355 ± 1nm | >12W | <0.1nm | 50kHz-20MHz | 10μJ |
| PS-532-50-30-25 | 532 ± 1nm | >30W | <0.1nm | 50kHz-20MHz | 25μJ |
| PS-532-50-5-25 | 532 ± 1nm | >5W | <0.1nm | 50kHz-20MHz | 25μJ |
| PS-532-50-5-10 | 532 ± 1nm | >5W | <0.1nm | 50kHz-20MHz | 10μJ |
| PS-1064-50-70-60 | 1064 ± 1nm | >70W | <0.1nm | 50kHz-20MHz | 60μJ |
| PS-1064-50-10-60 | 532 ± 1nm | >10W | <0.1nm | 50kHz-20MHz | 60μJ |
| PS-1064-50-10-20 | 532 ± 1nm | >10W | <0.1nm | 50kHz-20MHz | 20μJ |
| NS-532-30 | 532 ± 1nm | 10W | <200pm | 10-1000kHz | 30μJ |
| NS-532-80 | 532 ± 1nm | 10W | <200pm | 10-1000kHz | 80μJ |
| NS-1064-100 | 1064 ± 1nm | 40W | <200pm | 10-1000kHz | 100μJ |
| NS-1064-200 | 1064 ± 1nm | 40W | <200pm | 10-1000kHz | 200μJ |
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